Titre : |
Electrodéposition des métaux (Fe, Ni, Mo, Co…) sur silicium et silicium poreux |
Type de document : |
texte imprimé |
Auteurs : |
Fekih ZAKIA, Auteur |
Année de publication : |
2013 |
Importance : |
152p. |
Présentation : |
ill. |
Format : |
30cm. |
Langues : |
Français (fre) |
Mots-clés : |
électrodéposition, caractérisation, films minces, alliages métalliques. |
Résumé : |
L’emploi de nanomatériaux à l’échelle industrielle nécessite un procédé d’élaboration
économiquement intéressant.De ce fait, nous avons retenu une voie électrochimique pour l’élaboration
des couches minces sur silicium et silicium poreux.Dans ce travail de thèse, des couches minces, en
FeNiMo et CoMo sont électrodéposées sur le Silicium type-n+. Ces alliages, sous une variété de
conditions présentent différentes propriétés (morphologie, structure, composition chimique, propriétés
magnétiques…). Chacune de ces propriétés a nécessité donc des méthodes d’analyse appropriées. De ce
fait, la microscopie électronique à balayage couplée à l’analyse élémentaire par rayons X a présenté un
outil intéressant pour la caractérisation morphologique et compositionnelle des films déposés. Ainsi, la
diffraction des rayons X est toujours le moyen qui nous informe sur la structure cristalline des couches
obtenues. D’autre part,et par l’analyse par SIMS nous avons pu estimer l’épaisseur du dépôt et
l’éventuelle profondeur de pénétration du métal ou alliage dans la couche poreuse.
L’objectif de toutes ces analyses été d’abord la recherche des conditions opératoires
d’élaboration les plus adéquates pour les appliquer ensuite sur le silicium poreux.Pour mener à bien cette
deuxième partie du travail, nous nous somme été amené à réalisé le silicium poreux sur le même substrat
utilisé, c.- à .- d. Si-n+.
A l’issue de ce travail, nos résultats fournissent des données expérimentales, permettant une
contribution à l’électrodéposition des alliages métalliques contenant le molybdène, qui sont d'intérêt en
raison de leur grande résistance thermique et à la corrosion ainsi que pour leurs propriétés magnétiques. |
Electrodéposition des métaux (Fe, Ni, Mo, Co…) sur silicium et silicium poreux [texte imprimé] / Fekih ZAKIA, Auteur . - 2013 . - 152p. : ill. ; 30cm. Langues : Français ( fre)
Mots-clés : |
électrodéposition, caractérisation, films minces, alliages métalliques. |
Résumé : |
L’emploi de nanomatériaux à l’échelle industrielle nécessite un procédé d’élaboration
économiquement intéressant.De ce fait, nous avons retenu une voie électrochimique pour l’élaboration
des couches minces sur silicium et silicium poreux.Dans ce travail de thèse, des couches minces, en
FeNiMo et CoMo sont électrodéposées sur le Silicium type-n+. Ces alliages, sous une variété de
conditions présentent différentes propriétés (morphologie, structure, composition chimique, propriétés
magnétiques…). Chacune de ces propriétés a nécessité donc des méthodes d’analyse appropriées. De ce
fait, la microscopie électronique à balayage couplée à l’analyse élémentaire par rayons X a présenté un
outil intéressant pour la caractérisation morphologique et compositionnelle des films déposés. Ainsi, la
diffraction des rayons X est toujours le moyen qui nous informe sur la structure cristalline des couches
obtenues. D’autre part,et par l’analyse par SIMS nous avons pu estimer l’épaisseur du dépôt et
l’éventuelle profondeur de pénétration du métal ou alliage dans la couche poreuse.
L’objectif de toutes ces analyses été d’abord la recherche des conditions opératoires
d’élaboration les plus adéquates pour les appliquer ensuite sur le silicium poreux.Pour mener à bien cette
deuxième partie du travail, nous nous somme été amené à réalisé le silicium poreux sur le même substrat
utilisé, c.- à .- d. Si-n+.
A l’issue de ce travail, nos résultats fournissent des données expérimentales, permettant une
contribution à l’électrodéposition des alliages métalliques contenant le molybdène, qui sont d'intérêt en
raison de leur grande résistance thermique et à la corrosion ainsi que pour leurs propriétés magnétiques. |
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